自清潔聲屏障光催化涂層技術主要基于納 米級光催化材料在光照條件下產生的強氧化性自 由基，能有 效分 解有 機污染物和殺滅微生物‌。該技術通過以下機制實現雙重功效：

   ‌降噪功能‌：特殊表面結構設計可改變聲波反射路徑，多 維降噪聲屏障降噪效果達13分貝以上‌

‌   自清潔功能‌：光催化反應分 解表面有 機物，保持涂層長期清潔‌。文章來源聲屏障http://www.thequestfactory.com/。‌